Limpadora de wafers reduz perda de materiais. Com operacao baseada em processamento de receitas e propria para limpar superficies de wafers fabricados com tecnologia de 32 e 22 nm, apresenta camara de lavagem selada com controle integral das condicoes ambientais e permite a utilizacao de produtos quimicos volateis e altamente reativos. O modelo Orion® reduz a perda de materiais durante o descamamento fotorresistivo de implantes ultra-rasos e elimina a corrosao galvanica em portas de metal high-k e em interconexoes de cobre com camadas de cobertura metalica.
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