Controlador de fluxo oferece baixa queda de pressao. Projetado para controlar com seguranca fluxos de gases em aplicacoes de implantacao de ions em semicondutores, opera com pressoes a partir de 4 torr e fluxos de 1 a 20 sccm. O modelo MFC pode ser configurado para gases primarios de implantacao, tais como arsina, fosfina e trifluoreto de boro, e seu desenho otimizado proporciona baixas perdas de pressao. Dotado de valvula e sensor para manter a exatidao e a repetitividade do fluxo, dispensa trocas freqüentes de cilindros de gas, vem equipado com software de configuracao e diagnostico e pode ser conectado com computadores PC atraves de interface Ethernet.
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